这意味着什么？

可想而知。

从八十年代初开始，杨铭在香江北部成立科技城，就是布局半导体产业链的，除了成立香江集成电路制造公司外。

像光刻机这些，杨铭也早已让人成立。

这些年，除了东洋，欧美，香江本地的人才加入外，还有这两年苏连方面的人才加入。

如今几年时间过去，第一台光刻机终于研发出来。

当然，现在的光刻机和未来三四十年后的光刻机相比，其实复杂程度还要简单太多了。

就国内方面来说，早在1965年，Z国科学院便研制出了65型接触式光刻机。

如果不考虑性能上的差距，M国第一台接触式光刻机是由GCA公司于1961年制造的，彼此间只差了4年。

彼时的Z国人憋着一股“超英赶美”的志气，从不服输。在这种信念的支撑下，Z国光刻机技术进入了一段蓬勃辉煌的独立自主发展期。

70年代初期，Z国科学院开始研究计算机辅助光刻掩模工艺；

1977年，我国成功研制GK-3型半自动光刻机。

1980年，箐华大学在第四代分步式投影光刻机技术研究上取得成功，光刻精度达3微米，接近国际主流水平。

1982年，中科院109厂研制出第一台KHA-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。

1985年，国内新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近M国光刻机巨头GCA公司4800DSW型光刻机的水平。

值得一提的是，这是Z国第一台分步投影式光刻机，虽不像一些资料中描述的那般“领先世界”，但它却让国内在光刻机领域紧紧咬住了世界第一梯队的步伐，与顶端的差距最多只有七八年。

至此，Z国光刻机技术发展史已然抵达顶点，但谁又能想到，它竟也成了一个辉煌时代的落幕？

随着大开放的深入，Z国以积极的姿态融入世界，扑面而来的巨大机遇中也夹藏着许多“甜蜜的毒药”。

上世纪七八十年代，Z国和M国度过了一段“蜜月期”，大到先进武器，小到各种民用产品，只要钱到位都不再是触不可及的奢望。

西方国家也表现得相当“慷慨”，连光刻机这样的尖端产品也愿意出售。

可以说，西方对国内的“慷慨”，究竟是一时的好意还是险恶的阴谋，其中的利害实在意味深长。

另一方面，国内光刻机发展恰巧遭遇瓶颈，被卡在193nm光源已有小二十年。

既然能够轻松获取，为什么还要费劲研发呢？彼时的Z国远不算富裕，两相对比，“买办思想”很快就占据了主流。

逆水行舟不进则退，Z国与第一梯队的距离越来越大，很快便彻底脱节。

其实在这个领域，相比国内与美、日、欧的差距，第一梯队内部的斗争要惨烈且残酷得多。

光刻机的原理，其实并不复杂，甚至在发在初期，其复杂程度甚至不如照相机；一些对光刻机有需求的企业并不向专业厂商购买，而是买来零件自己组装，如英特尔。

而最早的光刻机发展潮流，是由M国人领导的。

1961年，M国GCA公司研制出第一台接触式光刻机，成为光刻机产业的巨头。

1967年，在M国空军的支持下，珀金埃尔默仪器公司推出世界首台投影式光刻机Micralign100，一夜间将芯片良率提升了7倍。

1978年，GCA公司又推出步进式光刻机DSW4800，分辨率可达1微米。

虽然该型光刻机的单价高达45万美元，但各大企业仍趋之若鹜，根本不愁卖。至此，GCA公司进入全盛时期，在其引领下，M国光刻机产业如日中天，殊不知养虎为患，由M国人打造的“产业盛世”已经进入了倒计时。

进入70年代，各大半导体厂商越来越多地选择东洋企业以配套光刻机的光学镜头，如尼康、佳能等。

在这个过程中，东洋企业将本不复杂的光刻机技术摸得一清二楚，并开始了自己的尝试。

随着光刻技术的不断进步，芯片制程越来越小，光刻机技术对光学系统的依赖也越来越重。在这个过程中，以光学元件见长的东洋企业逐渐崛起，飞快地从M国人手中夺走市场份额。GCA公司没落并被收购，最终，东洋人成为光刻机领域新的领头羊。

历史上，1984年，正当国内对独立研发光刻机的追求逐渐被“买办思想”蚕食殆尽时，荷兰飞利浦公司在总部大楼前的空地上临时搭建了一排简易厂房，作为一家拥有31名员工的新成立的合资公司的办公场所，这个不起眼的小公司，便是后来掌握超过六成光刻机市场、地位无可撼动的荷兰阿斯麦（ASML）公司，若想要生产10nm以下芯片，只能向该公司购买尖端光刻机，除此之外没有第二个选择；这样的光刻机，一台的售价为亿美元，有钱还不一定能买到。

甚至，后来曾向阿斯麦公司订购一台先进光刻机，连定金都交了，谁料好巧不巧，荷兰费尔德霍芬一座工业园发生火灾，殃及阿斯麦公司的一家重要供应商，结果很多年后，国内也没收到货。

2007年，阿斯麦公司占据的市场份额首次超过尼康，世界头把交椅正式易主。

(本章完)