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第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题(1 / 2)

作品:《我的一九八五

800nm制程工艺的专利技术对于gca来说如同鸡肋,但对于bsec如同神助,掌握后就能跨越1um制程工艺,掌握800nm制程工艺技术。

拥有了193nm的arfi准分子激光器的制造技术和800nm制程工艺的专利技术,但bsec还不能生产自主知识产权的1um制程工艺的光刻机。

为了将来不被美国政府卡脖子,未雨绸缪,bsec要掌握生产光刻机的三大核心技术:光源系统、光学系统和工作台系统,不断升级换代。

叮嘱邓国辉,bsec光刻机光源研究所研究清楚gmarf准分子激光器的工作原理和制造技术,光刻机光源公司自己生产;叮嘱陈伟长,bsec光刻机光学研究所自己研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光学镜头和反射镜头,光刻机光学公司自己生产。

孙健承诺,bsec在2年内生产具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机,淘宝控股公司掏钱奖励项目组200万元;在4年内能生产一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线,他从淘宝控股公司持有的bsec股份中,拿出200万股奖励给做出重大贡献的科技和生产人员,但在规定时间内,完不成任务,就开始裁员!

奖励和裁员双管齐下,管理层、技术人员和普通员工的压力剧增。

邓国辉拿到arf准分子激光器专利技术,同钱富强仔细研究一番后,如醍醐灌顶,豁然开朗,申请2000万元的研发经费,带领光刻机光源研究所按照gca提供的技术图纸,消化吸收arf准分子激光器的专利技术……

1995年2月,经过一年半的攻关,光刻机光源公司生产出一台6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机。

1995年9月,bsec生产了一条有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线,填补了国内技术空白,打开了国内市场,终于抛掉三年巨亏的不利局面,1995年度实现净利润11600万元。

1996年4月20日,bsec拿到公开发行新股的额度,6月11日,在鹏城证券交易所公开发行了15000万股新股(其中1000万股职工股),每股发行价6元,融资亿元(扣除发行费用),其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机,亿元用于补充公司流动资金。

当时bsec研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长,研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。”

“好的,董事长!”

“魏总,公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线,到时,pgca率先订购一条。”

“好的,董事长!”

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“董事长,经过近2年的联合攻关,研究证实,我们用去离子水等手段,保持水的洁净度和温度,使其不起气泡,用去离子水作为曝光介质,虽然光源波长还是用原来的193nm,但通过去离子水的折射,能使进入光阻的波长明显缩小,使用浸没式技术突破193nm波长可行,我们如今遇到的最大难题是我们自己制造的光学镜头不能满足突破193nm波长光刻光学器件的技术要求。”